普通型不锈钢化学研磨液无法消除毛刺、保证零件精密公差尺寸和表面粗糙度,严重影响高真空电子器件金属零件的使用性能.确定了一套完整的54cm FS高真空电子器件金属零件化学研磨工艺.介绍了该工艺的工艺流程及工艺规范.讨论了化学研磨原理及金属哑光表面控制.测量了54 cm FS高真空电子器件金属零件利用该工艺化学研磨后的表面粗糙度、孔直径、显微毛刺尺寸、平面度、孔部真圆度.结果表明,该工艺可以使零件表面达到哑光状态、保证精密公差尺寸、改善表面平整度、促进零件孔的真圆度,降低了生产成本,具有较高的推广价值.
参考文献
| [1] | 马建文.化学研磨工艺在GPT零件制造中的应用[J].彩色显像管,1992(02):55-57. |
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