以二甲基胺硼烷( DMAB)为还原剂,在铝合金上获得了化学镀镍低磷低硼镀层,研究了硫酸镍、次磷酸钠、 DMAB、络合剂、 pH值和稳定剂对镀层的沉积速度、显微硬度和微观形貌的影响.通过正交实验和单因素实验,确定了最佳工艺配方为: 24 g/L硫酸镍,适量 DMAB, 12 g/L次磷酸钠, 3 mg/L硫脲,30 mL/L络合剂 .所获得的化学镀镍镀层中 P、 B、 Ni的质量分数分别为: 1.81%、 0.26% 和 97.93% .该镀层与基体的结合力良好,硬度在 550~ 710 HV范围内,在铝质活塞上应用获得了满意的效果.
参考文献
[1] | 姜晓霞;沈伟.化学镀理论及实践[M].北京:国防工业出版社,2000:181-194. |
[2] | 胡信国,张钦京.化学镀镍技术的新进展[J].新技术新工艺,2001(02):35-37. |
[3] | 闫洪.化学镀 Ni-P-B[J].表面技术,1993(05):222. |
[4] | A Mallah .Electroless Nickel-Phosphorus-Boron Alloy Coatings[J].Plating and Surface Finishing,1989,76(04) |
[5] | C K Mital;P.B Shrivastava .Electroless Nickel-phosphorus-Boron Ally coatings[J].Metal Finishing,1986,84(10) |
[6] | Zexel Corporation;Japan Kanigen Co,Ltd .Electrolessly plated nickel/phosphorus/boron System coatings and machine parts utilizing the coatings[P].US 5897965,1999-04-27. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分:
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%