均匀设计试验方法及其在Ni-P-MoS2化学镀上的应用

电镀与涂饰 , 2005, 24(5): 6-8. doi: 10.3969/j.issn.1004-227X.2005.05.002

均匀设计试验方法及其在Ni-P-MoS2化学镀上的应用

胡三媛 ^1, , 徐方超 ^2, , 张淑艳 ^3, , 李长林 ^4,

1.中国农业大学工学院,北京,100083

2.中国农业大学工学院,北京,100083

3.中国农业大学工学院,北京,100083

4.中国农业大学工学院,北京,100083

关键词：均匀设计 , Ni-P-MoS2化学复合镀 , 镀液配方 homogeneity

Application of uniform design method to electroless Ni-P-MoS2 plating

均匀设计是基于试验点在整个试验范围内均匀散布的一种试验设计方法.介绍了该法的特点及其软件的基本功能与基本操作过程.从均匀设计试验方案的建立、试验结果的回归分析及优化、镀液最佳配方的试验验证3个方面介绍了均匀设计法在Ni-P-MoS2化学复合镀中的应用,并得到了最佳的Ni-P-MoS2化学复合镀液配方.该法应用于化学镀的工艺试验,简便可行.

参考文献

[1]	方开泰.均匀设计[M].北京:科学出版社,1994
[2]	王学仁.应用回归分析[M].重庆:重庆大学出版社,1991
[3]	于光.化学镀（Ni-P）-MoS2复合镀层工艺研究[J].材料保护,1996(01):16.

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Application of uniform design method to electroless Ni-P-MoS2 plating

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