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综述了PCB化学镀锡的发展现状及历史.介绍了现阶段化学镀锡工艺的优点及硫酸盐体系与烷基磺酸盐体系2种化学镀锡液的组成.分别介绍了主盐、硫脲、络合剂、还原剂及其它添加剂的作用.对化学镀锡的机理做了探讨.提出了比较合理的改进化学镀锡液的方案,尤其是在提高镀速和改善镀厚性等方面.同时提出了防止镀锡层表面变色和锡须生成的一些有效方法.

参考文献

[1] WARWICK M E;SHIRLEG B J .The autocatalytic deposition of tin[J].Transactions of The Institute of Metal Finishing,1980,58:9-14.
[2] MOLENAAR A;COUMANS J J .Autocatalytic tin deposition[J].Surface Technology,1982,16:265-275.
[3] 赵国鹏,樊江莉,温青.化学镀可焊性锡基合金的研究进展[J].电镀与涂饰,2001(01):46-49.
[4] UCHIDA;HIROKI;KUBO et al.Bath and method for the eletroless plating of tin and tin-lead alloy[P].JP 92306195.6,1991.
[5] 成江,胡柏星,沈健.化学镀锡铅合金[J].电镀与环保,2001(03):18-21.
[6] 方景礼.印制板的表面终饰工艺系列讲座 第二讲 超薄型超高密度挠性印制板的置换镀锡工艺[J].电镀与涂饰,2004(01):36-39.
[7] 方景礼.印制板的表面终饰工艺系列讲座 第三讲 TI-1新型印制板用置换镀锡工艺[J].电镀与涂饰,2004(02):36-38,42.
[8] 伍学高;李铭华;黄渭成.化学镀技术[M].成都:四川科学技术出版社,1985:216.
[9] MCKENNEY;DARRYL J Demaso;ARTHUR J .Process for providing bond enhancement and an etch resist in the fabrication of prin.ted circuit boards[P].US 6645549.11,2003.
[10] BOKIS A;GEORGE S Bishop;CRAIG V .Process for whisker-free aqueous electroless tin plating[P].US 6361823.3,2002.
[11] ORIO;ALFRED P Levy;LEONARD R .Immersion tin composition and process for using[P].US 4511403.4,1985.
[12] HOLTZMAN;ABRAHAM M Relis .Use of immersion tin and tin alloys as a bonding medium for multilayer circuits[P].US 4882202.11,1989.
[13] HOLTZMAN;ABRAHAM M Relis .Use of immersion tin and alloys as a bonding medium for multilayer circuits[P].US 4816070.3,1989.
[14] HOLTZMAN;ABRAHAM M Relis .Use of immersion tin coating as etch resist[P].US 4657632.4,1987.
[15] 李基森研究员谈我国片式电子元器件的电镀工艺与材料发展[J].中国表面工程,2004(06):47-48.
[16] R.Balaji,Malathy Pushpavanam,罗慧梅.甲基磺酸在电镀相关金属精饰领域的应用[J].电镀与涂饰,2004(05):40-45.
[17] ITO;JUNICHI;ATSUMI et al.Process for manufacturing interior tinned copper tube[P].US 6045860.4,2000.
[18] 郭忠诚,徐瑞东,朱晓云,翟大成.铜基上化学镀锡[J].电镀与环保,2000(05):22-23.
[19] 徐瑞东,郭忠诚,蕲跃华.铜基上化学镀锡新工艺初探[J].材料保护,2001(10):36-38.
[20] 徐瑞东,郭忠诚,朱晓云,翟大成,薛方勤,韩夏云.化学镀锡层可焊性研究[J].电子工艺技术,2002(03):98-100.
[21] 徐瑞东,郭忠诚,朱晓云,翟大成,薛方勤.化学镀锡层结构及性能研究[J].电镀与涂饰,2001(05):14-18.
[22] 徐瑞东,郭忠诚,薛方勤.化学镀锡层成分与表面形貌及结构分析[J].表面技术,2002(06):65-67.
[23] 梅天庆,冯辉.采用催化剂的化学镀锡新工艺的研究[J].南京航空航天大学学报,2002(03):262-265.
[24] 陈春成.铜基上化学镀锡工艺研究[J].电镀与精饰,2002(05):20-22.
[25] HOTTA SINICHI .Process for producing printed wiring board[P].US 6709803.3,2004.
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