Ni/α-Al2O3纳米复合电镀工艺的研究第二部分——采用直流电源电镀时的最佳工艺参数

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基金项目: 广东省广州市科技攻关项目(2002Z2-D2011) 广州电沉积开放实验室资助项目

Study on the Ni/α-Al2O3 nanocomposite plating Part Ⅱ-Optimal process under direct current plating

通过正交和单因素试验,得出采用直流电流电镀时,Ni/α-Al2O3纳米复合电镀的最佳工艺规范为:α-Al2O3 5～10 g/L,分散剂5～10 mL/L,阴极电流密度1～4 A/dm2,pH4.0～4.8,温度50～60 ℃,空气搅拌强度0.4～0.5 m3/h,并讨论了各因素的影响规律.

[1]	彭元芳,曾振欧,赵国鹏,刘建平.电沉积纳米复合镀层的研究现状[J].电镀与涂饰,2002(06):17-21.
[2]	彭元芳,赵国鹏,刘建平,曾振欧,于杰.Ni-α-Al2O3纳米复合电镀工艺条件的研究[J].电镀与涂饰,2003(05):7-12,53.
[3]	彭元芳,赵国鹏,刘建平,曾振欧,于杰.Ni-α-Al2O3纳米复合电镀最佳工艺条件的确定[J].表面技术,2004(01):53-55.
[4]	于杰,刘建平,赵国鹏,曾振欧.SiO2纳米水分散体系的制备及在电镀中的初步应用[J].电镀与涂饰,2004(02):25-26,57.
[5]	于杰,刘建平,赵国鹏,胡承刚,曾振欧.Ni-SiC纳米复合镀层的耐高温氧化性能[J].表面技术,2004(06):31-33.
[6]	刘建平,于杰,胡承刚,赵国鹏,曾振欧.Ni-SiC纳米复合镀层耐高温氧化性能的分析[J].电镀与环保,2005(01):8-10.

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