离子钨钼共渗的表观过程

材料科学与工艺, 2000, 8(1): 55-58. doi: 10.3969/j.issn.1005-0299.2000.01.013

离子钨钼共渗的表观过程

李成明 ^1, , 赵晋香 ^2, , 田林海 ^3, , 王建明 ^4, , 徐重 ^5, , 郑维能 ^6,

1.中科院力学所材料工程中心，北京 100080

2.太原理工大学表面工程研究所，山西太原 030024;

3.太原理工大学表面工程研究所，山西太原 030024;

4.太原理工大学表面工程研究所，山西太原 030024;

5.太原理工大学表面工程研究所，山西太原 030024;

6.首都师范大学化学系，北京 100037

基金项目: 山西省青年科研项目(971017)

关键词：离子轰击 , 渗层厚度 , 表面成分 , 等离子体密度

Surface apparent process of W-Mo alloying in double-glow plasma sirface alloying

研究了双层辉光离子钨钼共渗在离子轰击条件下形成渗层和无离子轰击时形成沉积层的表观过程．结果表明,在形成沉积层时,由于离子轰击作用已不存在,使渗层厚度减少26%, 用朗缪尔探针对双层辉光离子钨钼共渗过程进行了等离子体的诊断, 等离子体对表面成分有较大影响．合理的等离子体密度范围为5×1011～3×1012cm-3．

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Surface apparent process of W-Mo alloying in double-glow plasma sirface alloying

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