讨论利用直线型过滤电弧制备TiAlN薄膜中,过滤磁场作用于弧斑、靶中毒现象,电子和离子的回流和叠加偏压等因素影响作用的大小进行了实验分析.结果表明,磁场对弧斑分裂和弧斑运动速度的综合作用最为显著是由于直线型过滤电弧形成的瓶颈磁场造成的电子和离子的回流,以及直流叠加脉冲偏压形成的放电空间的等离子体磁撞,分解和离化的所起的共同作用的结果.这对于控制电弧离子镀沉积薄膜中的颗粒尺寸和颗粒密度,指定合理的工艺参数有一定的指导作用.
参考文献
| [1] | 闻立时.离子镀硬质膜技术的最新进展和展望[J].真空,2000(01):1-11. |
| [2] | P J Martin .Filtered arc evaporation[J].Surface Engineering,1993,9(01):53-58. |
| [3] | F Coll;D.M.Sanders .Design of vacuum arc - based sources[J].Surface and Coatings Technology,1996,81:42-51. |
| [4] | 黄美东,孙超,董闯,黄荣芳,闻立时.电弧离子镀中不同偏压模式对TiN薄膜形貌的影响[J].真空,2001(03):36-38. |
| [5] | 李刘合.阴极弧离子镀磁过滤器[J].真空,1999(03):14. |
| [6] | 程仲元;邹积岩.真空电弧涂镀TiN膜中宏观颗粒的电镜分析[J].金属热处理学报,1997(02):36-39. |
| [7] | R L oxman;S Goldsmith .Macroparticlecontaminationincathodicarccoatingsgenerationtransportandcontrol[J].Surface and Coatings Technology,1992,52:39-50. |
| [8] | 朱武飚 .多弧离子镀膜设备中直线型磁过滤装置的研究与应用[D].中国科学院力学研究所,1999. |
| [9] | K Akari;H Tamagaki .ReductioninmacropaatriclesduringthedepositionofTiNfilmspreparedbyarcionplating[J].Surface and Coatings Technology,1990,43-44:312-323. |
| [10] | Li Zhengyang;Zhu Wubiao;Zhang Yong;Li Guiying;Cao Eryan .Effects of superimposed pulse bias on TiN coating in cathodic arc deposition[J].Surface & Coatings Technology,2000(1/3):158-161. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%