CVD Al2O3-SiO2涂层的莫来石化行为

航空材料学报, 2005, 25(5): 34-37. doi: 10.3969/j.issn.1005-5053.2005.05.007

CVD Al2O3-SiO2涂层的莫来石化行为

陈照峰 ^1, , 成来飞 ^2, , 张立同 ^3, , 严波 ^4, , 李聪 ^5,

1.南京航空航天大学,材料科学与技术学院,南京,210016;西北工业大学,凝固技术国家重点实验室,西安,710072

2.西北工业大学,凝固技术国家重点实验室,西安,710072

3.西北工业大学,凝固技术国家重点实验室,西安,710072

4.南京航空航天大学,材料科学与技术学院,南京,210016

5.南京航空航天大学,材料科学与技术学院,南京,210016

基金项目: 国家高技术研究发展计划(863计划)(2002AA305306)

关键词：化学气相沉积 , Al2O3-SiO2 , 涂层 , 莫来石化

Mullitization Behavior of Al2O3 -SiO2 Coating Deposited by CVD

采用CVD工艺,以AlCl3-SiCl4-H2-CO2为先驱体气相体系,在石墨纸上于550℃制备出Al2O3-SiO2复合氧化物涂层,通过DTA和XRD分析了该涂层的莫来石化过程.该涂层由γ-Al2O3和非晶SiO2组成,其DTA曲线有四个典型峰,793℃弱的放热峰为开始莫来石化峰;984℃尖锐的放热峰为γ-Al2O3向δ-Al2O3转化峰;1240℃弱的吸热峰为δ-Al2O3向α-Al2O3转化峰,该过程比较缓慢;1337℃强的放热峰为莫来石形成峰,发生在δ-Al2O3与SiO2之间.结果表明,该CVD过程不具氧化性,对C不腐蚀,制备的Al2O3-SiO2涂层经1350℃热处理2h可转化为莫来石结合α-Al2O3.

参考文献

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[7]	陈照峰,张立同,成来飞,徐永东,金志浩.CVD Al2O3-SiO2系氧化物及其机理分析[J].稀有金属材料与工程,2004(06):609-611.

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