通过X射线衍射和XPS对电磁线绝缘膜下表面黑膜及模拟腐蚀试样的表面膜进行了分析,测得表面黑膜主要由Cu2O、CuO、CuCO3、Cu(OH)2、Cu的氯化物和硫化物以及钠盐、SiO2等组成.由此对电磁线绝缘膜下表面发黑的原因进行了探讨.
参考文献
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