本研究完成了在具有立方织构的Ni基带上用外延生长法制备NiO缓冲层的工作.用此方法制成的NiO膜具有很强的立方织构,其(111)的Φ扫描峰的最大半高宽(FWHM)值达到11°.这种NiO膜的形成为进一步溅射沉积具有双轴取向的YBa2Cu3O7膜奠定了良好的基础.
参考文献
[1] | Iijima Y et al.[J].Applied Physics Letters,1992,60:769. |
[2] | Reade R P et al.[J].Applied Physics Letters,1992,61:2231. |
[3] | Fukutomi M et al.[J].Physica C,1994,219:333. |
[4] | Wu X D et al.[J].Applied Physics Letters,1994,65:1961. |
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