Fe-N薄膜的时效研究

1.天津大学理学院应用物理学系,天津,300072

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基金项目: 国家自然科学基金(50072015)

Ageing Effect Investigation of Fe-N Films

本文利用对向靶反应溅射法制备Fe-N膜,本底真空度为6×10-4Pa,溅射功率为160W,基底温度约为180℃,再经180℃退火处理.所得样品的结构由X射线衍射分析(XRD)得到,并对Fe-N膜时效性进行了跟踪实验.结果表明,制备的Fe-N膜在室温条件下放置半年以上,其膜的结构及各相含量基本未变.

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