调制周期对TaN/NbN纳米多层膜力学性能的影响

金属功能材料, 2007, 14(1): 23-26. doi: 10.3969/j.issn.1005-8192.2007.01.007

调制周期对TaN/NbN纳米多层膜力学性能的影响

张学华 ^1, , 曹猛 ^2, , 王明霞 ^3, , 刘桐 ^4, , 李德军 ^5,

1.天津师范大学,物理与电子信息学院,天津,300074

2.天津师范大学,物理与电子信息学院,天津,300074

3.天津师范大学,物理与电子信息学院,天津,300074

4.天津师范大学,物理与电子信息学院,天津,300074

5.天津师范大学,物理与电子信息学院,天津,300074

基金项目: 国家自然科学基金(50472026) 天津市应用基础研究项目(043801011)

关键词：射频磁控溅射 , TaN/NbN多层膜 , 调制周期 , 硬度

Influence of Modulation Period on Mechanical Property of Nanoscale TaN/NbN Multilayered Coatings

本研究选择钽和铌的氮化物作为个体层材料,利用FJL560CI2型超高真空射频磁控与离子束联合溅射系统制备TaN、NbN及-系列的TaN/NbN多层薄膜.通过XRD和纳米力学测试系统以及摩擦磨损仪分析了该体系合成以后的晶体结构,以及调制周期对机械性能的影响.结果表明:多层膜的纳米硬度值普遍高于两种个体材料混合相的硬度值;当调制周期为8.5 nm时,TaN/NbN多层膜达到最大硬度30 GPa,结晶出现多元化,多层膜体系的硬度、应力、弹性模量以及膜-基结合性能均达到最佳效果.

参考文献

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