用离子束辅助沉积(IBAD)工艺制备TiCxNy膜的研究

宇航材料工艺 , 1999, 29(5): 54-59. doi: 10.3969/j.issn.1007-2330.1999.05.013

用离子束辅助沉积(IBAD)工艺制备TiCxNy膜的研究

刘仲阳 ^1, , 王培录 ^2, , 孙官清 ^3, , 廖小东 ^4, , 郑思孝 ^5,

1.四川大学原子核科学技术研究所,教育部辐射物理及技术开放研究实验室,成都,610064

2.四川大学原子核科学技术研究所,教育部辐射物理及技术开放研究实验室,成都,610064

3.四川大学原子核科学技术研究所,教育部辐射物理及技术开放研究实验室,成都,610064

4.四川大学原子核科学技术研究所,教育部辐射物理及技术开放研究实验室,成都,610064

5.四川大学原子核科学技术研究所,教育部辐射物理及技术开放研究实验室,成都,610064

基金项目: 国防科工委资助项目

关键词：离子束辅助沉积 , 氮碳化钛 , 摩擦 , 磨损

Study of TiCxNy Films Prepared by Ion Beam Assisted Deposition(IBAD)

用离子束辅助沉积(IBAD)工艺在9Cr18、GCr15钢基体上形成了TiCxNy膜.TEM观察发现膜均呈多晶结构,都具有(111)、(200)和(220)择优取向.AES 和XPS分析进一步证实,TiCxNy膜呈含氧配置.干摩擦表明膜的抗氧化性能优良,其存在能有效抑制基体在摩擦过程中氧化膜的形成.又由于膜的硬度高, 润滑性良好,每种基体的磨损特性都得到了显著地改善.但随着基体不同,膜的力学和机械性能随N的注入量变化又表现出不同的变化规律.膜的硬度和摩擦特性与N含量有关,总的趋势是过高的N含量对其硬度与摩擦特性造成不利影响.

参考文献

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