低发射率薄膜的红外隐身特性研究

宇航材料工艺 , 2007, 37(5): 39-42. doi: 10.3969/j.issn.1007-2330.2007.05.010

低发射率薄膜的红外隐身特性研究

刁训刚 ^1, , 郝维昌 ^2, , 王天民 ^3, , 武哲 ^4, , 黄俊 ^5,

1.北京航空航天大学,北京,100083

2.北京航空航天大学,北京,100083

3.北京航空航天大学,北京,100083

4.北京航空航天大学,北京,100083

5.北京航空航天大学,北京,100083

基金项目: 国家自然科学基金(90305026)

关键词：低发射率 , 红外隐身 , 薄膜

Infrared Stealth Properties of Low Emissivity Thin Films

利用磁控溅射法制备了氧化铟锡(ITO)、掺铝氧化锌(ZAO)、TiO2/Ag/TiO2纳米多层等三种透明的低发射率薄膜.研究了这些低发射率薄膜以及降低材料红外发射率对降低红外辐射强度和红外隐身所起的作用.结果表明:降低红外发射率可以有效地抑制由于温度升高所带来的附加红外辐射;低红外发射率薄膜在红外隐身中有潜在应用价值.

参考文献

[1]	Steve Douglass;Bill Sweetman.Hiding in plane sightstealth aircraft own the night[J].Now They Own the Day,1997(05):54-59.
[2]	Bill Sweetman.The invisible men[J].Air & Space Magazine,1997(05):18-27.
[3]	里查森D.现代隐身飞机[M].北京:科学出版社,1991
[4]	Jacobs P A.地面目标和背景的热红外特性[M].北京:国防工业出版社,2004
[5]	Szczyrbowski J;Brauer G;Ruske M et al.New low emissivity coating based on twin-mag sputtered TiO2 and Si3N4 layers[J].Thin Solid Films,1999,351:254.

上一张下一张

计量

下载量()
访问量()

作者相关

文章评分

您的评分：
1

0%
2

0%
3

0%
4

0%
5

0%

材料期刊网

低发射率薄膜的红外隐身特性研究

Infrared Stealth Properties of Low Emissivity Thin Films

参考文献