光学滤光片薄膜边缘应力研究

宇航材料工艺 , 2015, 45(1): 14-17. doi: 10.3969/j.issn.1007-2330.2015.01.004

光学滤光片薄膜边缘应力研究

董茂进 ^1, , 张玲 ^2, , 王多书 ^3, , 熊玉卿 ^4, , 王济洲 ^5,

1.兰州空间技术物理研究所,真空技术与物理重点实验室,兰州730000

2.兰州空间技术物理研究所,真空技术与物理重点实验室,兰州730000

3.兰州空间技术物理研究所,真空技术与物理重点实验室,兰州730000

4.兰州空间技术物理研究所,真空技术与物理重点实验室,兰州730000

5.兰州空间技术物理研究所,真空技术与物理重点实验室,兰州730000

基金项目: 重点实验室基金(9140C540301110C5402)

关键词：光学薄膜 , 边缘效应 , 应力模型

Study on Stress in Edge of Optical Filters

Keywords： Optical thin film , Edge effect , Stress model

以光学滤光片薄膜边缘应力作为对象,研究了Ge/ZnS单、多层光学薄膜应力的变化规律.通过实验研究了离子束轰击能量以及真空退火温度等因素对Ge/ZnS光学薄膜应力类型、大小、变化及其分布的影响规律.ZnS薄膜的应力为压应力,采用离子束辅助工艺后薄膜边缘应力变得均匀;真空退火使ZnS薄膜的应力减小为原来的一半.通过优化沉积参数和张应力、压应力薄膜的组合降低了Ge/ZnS多层光学薄膜的应力,结果表明其平均应力分别为0.1 MPa,而且处于压应力状态.

参考文献

[1]	邵淑英,范正修,邵建达.ZrO2/SiO2多层膜中膜厚组合周期数及基底材料对残余应力的影响[J].物理学报,2005(07):3312-3316.
[2]	Bilek MMM;McKenzie DR .A comprehensive model of stress generation and relief processes in thin films deposited with energetic ions[J].Surface & Coatings Technology,2006(14/15):4345-4354.
[3]	袁超;安兵;张同俊.基片弯曲法分析Ag/Fe多层膜退火过程中界面应力的变化[J].理化检测,2003(39):237-239.
[4]	向鹏,金春水.Mo/Si多层膜残余应力的研究[J].光学精密工程,2003(01):62-67.
[5]	顾培夫,郑臻荣,赵永江,刘旭.TiO2和SiO2薄膜应力的产生机理及实验探索[J].物理学报,2006(12):6459-6463.

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