分析了ITO及CF玻璃基板表面污染的主要类型为有机物污渍和灰尘颗粒,污染主要来源于产品制作、包装、转运过程.利用正交试验设计法找出影响清洗效果的主要因素是清洗液浓度和超声清洗条件,并确定最优因素水平组合.优化后工艺条件应用于生产实践,测得接触角小于5 °,灰尘粒子数平均少于6个;使线间隙≥8.0 μm的CSTN-LCD产品生产良品率提高2.85 % .
参考文献
| [1] | 凌志华.STN-LCD技术的发展[J].液晶与显示,2002,17(4):233-240. |
| [2] | 黄锡珉.平板显示技术发展[J].液晶与显示,2002,17(5):317-322. |
| [3] | 黄锡珉.液晶显示技术的开发和产业化[J].液晶与显示,2002,17(6):403-410. |
| [4] | 李亚利,张方辉.TFT-LCD切割裂片工艺参数探讨[J].液晶与显示,2006,21(1):43-47. |
| [5] | 日本学术振兴会第142委员会编.液晶器件手册[M].黄锡珉,黄辉光,李之熔,译.北京:航天工业出版社,1992:559-581. |
| [6] | 张麦丽,王秀峰,牟强,等.ITO玻璃光刻工艺的研究[J].液晶与显示,2005,20(1):22-26. |
| [7] | 马颖,张方辉,靳宝安,等.ITO透明导电薄膜的制备及光电特性研究[J].液晶与显示,2004,19(5):376-379. |
| [8] | 张航,于涛,张睿鹏.彩色滤光膜色度测试系统的研究[J].液晶与显示,2005,20(4):337-341. |
| [9] | 李忠范,高文森.数理统计与随机过程[M].长春:吉林大学出版社,2000:256-271. |
| [10] | White M L.Clean Surface:their preparation and characterization for inter-facial studies[M].Ed.G.Goldfinger.New York:Marcel Dekker Inc.,1979:361. |
| [11] | 任露泉.试验优化技术[M].北京:机械工业出版社,1987:108-135. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%