硅基平面波导材料的制作

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Fabrication of planar waveguide material on silicon

采用火焰水解法(FHD)在Si 基上淀积SiO2预制材料,然后在真空中/空气气氛中高温处理(1380℃),制得玻璃化的SiO2 膜材料;该材料膜厚适中(10～30μm)、平整度好、光滑透明,适合制作单模、多模列阵平面波导光栅.并利用XRD、SEM、台阶仪等仪器对SiO2 膜进行了测试分析.

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