通过在放电空间中引入垂直基片方向有梯度的磁场 , 使得利用普通的平面磁控溅射技术可以方便地制备磁性薄膜 .与此同时,磁性薄膜的许多物理性能发生了变化.这种变化还出现于非磁性靶的情况中.本工作对有、无磁场时溅射的过程与结果作了比较,包括自偏压值,薄膜结晶状况,薄膜磁性能的变化等等.通过比较认为,带电粒子在放电空间中的特殊磁场位形中的运动是变化的根本原因 .
参考文献
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