聚对二甲苯 /SiO2复合薄膜的制备及光学性能研究

功能材料与器件学报 , 2005, 11(1): 38-42. doi: 10.3969/j.issn.1007-4252.2005.01.009

聚对二甲苯 /SiO2复合薄膜的制备及光学性能研究

刘枫 ^1, , 沈军 ^2, , 秦仁喜 ^3, , 吴广明 ^4, , 周斌 ^5, , 肖轶群 ^6, , 吴兆丰 ^7,

1.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092

2.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092

3.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092

4.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092

5.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092

6.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092

7.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092

基金项目: 国家高技术研究发展计划(863计划)(2002AA842052) 国家自然科学基金(20133040)

关键词：聚对二甲苯 , SiO2增透膜 , 光氧化

Study on preparation and optical properties of Poly(p- xylylene)/SiO2 composite film

聚对二甲苯是一种可应用于光学器件和晶体保护的新型高分子材料.采用真空化学气相沉积法制备聚对二甲苯薄膜,并通过提拉镀膜法在其表面镀制一层 SiO2增透膜,可提高薄膜的透射率至 90%以上.用 FT- IR、紫外-近红外分光光度计和 XPS对聚对二甲苯 /SiO2复合薄膜结构和光学性能进行了表征和测试 ,并初步研究了薄膜受紫外光辐照而产生光氧化现象的机理.

参考文献

[1]	William R. Dolbier Jr;William F. Beach .Parylene-AF4: a polymer with exceptional dielectric and thermal properties[J].Journal of Fluorine Chemistry,2003(1):97-104.
[2]	Yang GR.;Karcz J.;Gill WN.;Lu TM.;Ganguli S. .High deposition rate parylene films[J].Journal of Crystal Growth,1998(3):385-390.
[3]	马建华,吴广明,魏建东,程银兵,孙琪,沈军,王珏.折射率可调疏水型SiO2光学薄膜的制备研究[J].原子能科学技术,2002(04):335-339.
[4]	Fortin JB.;Lu TM. .A model for the chemical vapor deposition of poly(para-xylylene) (parylene) thin films[J].Chemistry of Materials,2002(5):1945-1949.
[5]	朗比 B;拉贝克 J F.聚合物的光降解、光氧化和光稳定[M].北京:科学出版社,1986:104-108.
[6]	Guangming Wu;Jue Wang;Jun Shen .A new method to control nano-porous structure of sol-gel-derived silica films and their properties[J].Materials Research Bulletin: An International Journal Reporting Research on Crystal Growth and Materials Preparation and Characterization,2001(12):2127-2139.

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