用MOD方法在LAO基片上沉积不同厚度的YBCO薄膜.用X射线衍射仪对这一系列样品进行表征分析,研究随着薄膜厚度的增加微结构的变化及临界电流密度的变化.X射线衍射分析发现YBCO薄膜取向度随薄膜厚度的增加,在800nm时取得最佳值之后又随厚度增加由强变弱.晶格常数c随着膜厚的增加而增大.本研究对这一系列样品进行了φ扫描分析和摇摆曲线半高宽的计算,并对800nm的YBCO薄膜做了倒易空间图谱分析,实验结果发现800nm的YBCO薄膜晶化比较好.本研究还分析了薄膜厚度对YBCO薄膜临界电流密度的影响.
参考文献
| [1] | Gu B.;Mei S.;Phelan PE. .Coupled heat transfer and thermal stress in high-T-c thin-film superconductor devices[J].Cryogenics,1998(4):411-418. |
| [2] | Kawashima J.;Hirabayashi I.;Yamada Y. .Critical thickness and effective thermal expansion coefficient of YBCO crystalline film[J].Physica, C. Superconductivity and its applications,1998(1/2):114-118. |
| [3] | 邵淑英,范正修,范瑞瑛,邵建达.薄膜应力研究[J].激光与光电子学进展,2005(01):22-27. |
| [4] | Awano M;Fujishiro Y;Moon Y .Microstructure control of an Oxide superconductor centers and Growing crystal surface[J].Elsevier science Physica C,2000,341-348:2017-2018. |
| [5] | Capponi J;Chaillout J C.[J].Europhysics Letters,1987 |
| [6] | Francois M;Walker E et al.[J].Solid State Communications,1987,63(12):1149-1153. |
| [7] | Cogordan J A .Mat Res Sox[J].Symp Proc Materials Research Society,1990,169:37-40. |
| [8] | 刘春芳;唐辉;徐静仁 等.工艺条件对C轴择优取向YBCO厚膜点阵常数的影响[J].稀有金属材料与工程,1994,23(01):26-29. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%