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在硼酸镀液体系中采用流动槽滴入法电结晶制得Cu/Co纳米多层膜,通过循环伏安法确定Cu、Co电结晶电位,分别为-0.55V和-1.05V(vs.SCE),通过X射线衍射技术(XRD)和X射线荧光光谱法(XRF)对Cu/Co纳米多层膜的结构、成份进行了分析.并用物性测量系统PPMS测试了Cu/Co多层膜的磁性能,结果表明:电结晶制备的Cu/Co多层膜的矫顽力比较小,仅为34 Oe,适合作巨磁阻磁头材料,其磁电阻随磁场强度的增大而减小,且约在3000 Oe时磁电阻趋于饱和,此时的巨磁阻效应GMR值达到了14%.

参考文献

[1] Berger A;Linke U;Oepen H P .Symmetry-induced uniaxial anisotropy in ultrathin epitaxial cobalt films grown on Cu(1113)[J].Physical Review Letters,1992,68(06):839-842.
[2] Mosca D H;Petroff F;Fert A .Oscillatory interlayer coupling and giant magnetoresistance in Co/Cu multilayers[J].Journal of Magnetism and Magnetic Materials,1991,94(1-2):L1-L5.
[3] 王辉;金庆原;沈元华 等.不同制备条件下的Co/Cu多层膜的巨磁电阻及铁磁共振研究[J].功能材料与器件学报,1999,5(01):71-75.
[4] 赵宏武,别青山,杜军,鹿牧,眭云霞,翟宏如,夏慧.分子束外延及溅射法制备Co/Cu多层膜结构与磁电阻的比较研究[J].物理学报,1997(10):2047-2053.
[5] 印仁和.硼酸系电结晶制[Co/Pt]n(n≥40)金属多层膜的研究[J].电化学,1998(03):280.
[6] Lashwore D S;Dariel M P .Electrodeposition Cu-Ni textured superlattices[J].Journal of the Electrochemical Society,1998,135(05):1218-1221.
[7] Jyoko Y;Kashiwabara S;Hayashi Y .Preparation of giant magnetoresistance Co/Cu multilayers by electrodeposition[J].Journal of the Electrochemical Society,1997,144(01):L5-L8.
[8] 曾跃;姚素薇.电镀磁性镀层[M].天津:天津大学出版社,1999
[9] Chen T;Cavallotti P .The microstructure and magnetic properties of electroplated cobalt film for perpendicular magnetic recording[J].IEEE Transactions on Magnetics,1982,18(06):1125-1127.
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