改性SU8光刻胶的光学特性及其工艺

1.上海交通大学微纳技术研究院,微米纳米加工技术国家重点实验室,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030

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基金项目: 国家重点实验室资助项目(9140C7903070608;9140C7903060706)

Optical properties and process of the diluted SU8 resist

通过改变SU-8光刻胶中PAG浓度获得含不同PAG浓度的各种改性SU-8光刻胶,在对其光学性能以及最小曝光剂量的测定基础上研究改性SU-8光刻胶的光刻工艺,借助于改性SU-8光刻胶的合理设计以及背面曝光和正面曝光的结合应用提高多元材料复杂结构的集成制造能力.

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