钽表面离子渗氮工艺研究

材料热处理学报, 2001, 22(2): 48-50. doi: 10.3969/j.issn.1009-6264.2001.02.012

钽表面离子渗氮工艺研究

张德元 ^1, , 曾卫军 ^2, , 付青峰 ^3, , 李放 ^4, , 林勤 ^5, , 罗文 ^6,

1.北京科技大学理化系,

2.江西省科学院应用物理研究所,

3.江西省科学院应用物理研究所,

4.江西省科学院应用物理研究所,

5.北京科技大学理化系,

6.江西省科学院应用物理研究所,

关键词：钽 , 离子渗氮 , 工艺

Experimental Research of Plasma-nitriding of Tantalum

采用组合的二次回归正交设计方法,针对表面硬度、表面粗糙度,对钽表面离子渗氮工艺参数(气体压力、温度、氢气摩尔分数)进行了优化.根据回归结果和统计分析给出了回归方程.

参考文献

[1]	张德元,李放,罗文,蔡莉,许兰萍,林勤.钽等离子体渗氮的表面过程分析[J].中国有色金属学报,2000(02):189.
[2]	Panaioti T A et al.Regularities of phase formation on nitridation of tantalum-tungsten alloys in glow discharge[J].Metal Science and Heat Treatment,1994,36(5-6):301-307.
[3]	Wu JD;Wu CZ;Zhong XX;Song ZM;Li FM;Northwestern Polytech Univ Dept Appl Phys Xian 710072 Peoples R China. .Surface nitridation of transition metals by pulsed laser irradiation in gaseous nitrogen[J].Surface & Coatings Technology,1997(2/3):330-336.
[4]	D. Rafaja .Non-metal diffusion coefficients for the Ta-C and Ta-n systems[J].Acta materialia,1998(10):3477-3483.
[5]	栾军.现代试验设计优化方法[M].上海:上海交通大学出版社,1995:201.

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