Cu离子由MEVVA离子注入机引出注入0Cr18Ni9不锈钢,采用60~100keV的能量、(0.2~2.0)×1017cm-2剂量.计算了不同能量下Cu离子的饱和注入量、Cu注入不锈钢中浓度分布和注入层表面的Cu离子浓度.分析了注人能量、注入剂量与抗菌性能的关系,注入后表面的Cu离子浓度与抗菌性能的关系.计算表明,在不同注入能量下,饱和注入量是不同的.当注入量接近饱和注入量时,试样具有最佳的抗菌性能,抗菌效果与注入层表面的铜含量密切相关.
参考文献
[1] | 吴兴惠 .无机抗菌材料及应用[J].云南大学学报(自然科学版),2002(24):1-10. |
[2] | 王冰.抗菌性不锈钢的开发与应用[J].包装与食品机械,1998(04):33-34. |
[3] | Katsuo Takahashi;Massage lwaki .[J].Surface and Coatings Technology,1992,51:455-460. |
[4] | Zhang Tonghe;Ji Chengzhou·;Yang Jianhua· .Formation of intermetallic compounds with a high flux pulse molybdenum ion beam in steel and aluminum[J].Surface and Coatings Technology,1994,65:57-63. |
[5] | Zhang Tonghe;Ji Cbengzhou·;Sben Jinghua·.Surface modification of steel by high-dose pulse-ion implantation of titanium, tungsten, molybdenum and carbon[J].Nuclear Instruments and Methods in Physics Research,1991(B59/60):828-832. |
[6] | 韩文喻.病原细菌检验技术[M].长春:吉林科学技术出版社,1992:79. |
[7] | 张建华 .氮离子注入剂量与金属表面硬度的关系研究[J].材料科学与工艺,1997,5(03):66-70. |
[8] | Ziegler J F.IonImplantation Science and Technology[M].New York:Academic Press Inc,1984:57. |
[9] | 张通和;吴瑜光.离子注入表面优化技术[M].北京:冶金工业出版社,1993:39. |
[10] | Sigmund P .Theory of sputtering I-Sputtering yield of amorphous and polycrystalline[J].Physiological Reviews,1969,184(02):383. |
[11] | 张通和;吴瑜光.离子束材料改性科学和应用[M].北京:科学出版社,1999:42. |
[12] | 大久保直人;中村定幸;山本正人 .抗菌ステンレフ鋼"NSSAMシリ-ス"の抗菌性能と材料特性[J].日新制鋼技報,1998,77:68-81. |
[13] | Reynolds G W;Knudson A R;Gossett G R .Sputtering observation during binary alloy production by ion implantion[J].Nuclear Instruments and Methods in Physics Research,1981,182-183:179. |
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