等离子辉光TiN复合渗镀层结构与性能的研究

材料热处理学报, 2005, 26(6): 109-112. doi: 10.3969/j.issn.1009-6264.2005.06.026

等离子辉光TiN复合渗镀层结构与性能的研究

刘燕萍 ^1, , 徐晋勇 ^2, , 隗晓云 ^3, , 王建忠 ^4, , 高原 ^5, , 徐重 ^6,

1.太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024

2.太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024;桂林电子工业学院,广西,桂林,541004

3.太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024

4.太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024

5.太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024

6.太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024

基金项目: 中国科学院资助项目上海宝钢集团公司资助项目(50374050) 山西省自然科学基金(20031050)

关键词：等离子辉光放电 , PVD , TiN , 耐蚀性 , 组织结构

Study on Structure and Property of TiN Multi-permeating coatings Prepared by Plasma Discharge Technique

利用等离子渗金属技术、尖端放电、空心阴极效应和反应气相沉积技术,在碳钢表面形成具有扩散层和沉积层的新型复合渗镀TiN沉积层+TiN析出相+Ti扩散层,并与等离子渗镀TiN/Ti层以及在碳钢基体表面直接用PVD法沉积TiN薄膜的表面形貌、结构、耐蚀性进行了检测和分析.结果表明:等离子渗镀的复合渗镀TiN/Ti层表面为均匀起伏的胞状物,Ti和N原子由表层呈梯度沿基体向内分布,属于冶金扩散层;用等离子渗金属技术等形成的复合渗镀TiN沉积层+TiN析出相+Ti扩散层,其表面形貌是为均匀、致密、细小的组织,平均硬度达到2500HV0.1左右,渗镀层厚度达十几微米,TiN层择优取向为(200)晶面;而PVD法直接沉积TiN薄膜厚度较薄,晶粒以不规则形式分布在基体上.在0.5mol/L H2SO4溶液中腐蚀性能表明,复合渗镀TiN沉积层+TiN析出相+Ti扩散层的耐蚀性较好.

参考文献

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