欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

分别利用真空电弧沉积技术与等离子体辅助真空电弧沉积技术在不锈钢片、高速钢片和单晶硅片上沉积TiAlSiN多元薄膜,通过X射线衍射和扫描电镜对采用两种方法制备的薄膜物相及表面形貌进行了分析比较,测定了高速钢片上薄膜的显微硬度,进行了耐磨性实验.结果表明,采用离子束辅助沉积制备的薄膜,有(200)面的择优取向,薄膜的表面形貌得到改善,硬度和耐磨性提高.

参考文献

[1] Inoune H;Uchida H;Hioki A.[J].Thin Solid Films,1995(271):15.
[2] Nordin M;Larsson M;Hogmark S .[J].Wear,1999,232:211.
[3] Otani Y;Hofmanm S .[J].Thin Solid Films,1996,287:188.
[4] 曾鹏,胡社军,谢光荣,黄拿灿,吴起白.多弧离子镀(Ti,W)xN合金涂层组织与性能[J].材料工程,2000(09):33-35,41.
[5] Ma S Procházka J;Karvánková P et al.[J].Surface Technology,2005,194:143.
[6] Veprek S.;Jilek M. .Super- and ultrahard nanacomposite coatings: generic concept for their preparation, properties and industrial applications[J].Vacuum: Technology Applications & Ion Physics: The International Journal & Abstracting Service for Vacuum Science & Technology,2002(3/4):443-449.
[7] Holubar P;Jilek M;Sina M .[J].Surface Technology,1999,120:184.
[8] 闻立时.纳米结构电磁工程微观原理研究[J].真空,2000(04):1.
[9] 宫秀敏,叶卫平,孙伟,许大庆,朱小清.TiN涂层中的择尤取向及其对涂层性能的影响[J].机械工程材料,2000(01):20-22.
上一张 下一张
上一张 下一张
计量
  • 下载量()
  • 访问量()
文章评分
  • 您的评分:
  • 1
    0%
  • 2
    0%
  • 3
    0%
  • 4
    0%
  • 5
    0%