退火处理对Si/SiC纳米复合薄膜性能与结构的影响

材料科学与工程学报, 2000, 18(z2): 582-586. doi: 10.3969/j.issn.1673-2812.2000.z2.011

退火处理对Si/SiC纳米复合薄膜性能与结构的影响

刘锋 ^1, , 莫建良 ^2, , 张溪文 ^3, , 韩高荣 ^4,

1.浙江大学材料系硅材料国家重点实验室,杭州,310027

2.浙江大学材料系硅材料国家重点实验室,杭州,310027

3.浙江大学材料系硅材料国家重点实验室,杭州,310027

4.浙江大学材料系硅材料国家重点实验室,杭州,310027

基金项目: 教育部优秀青年教师资助计划国家自然科学基金(59872029)

关键词：硅/碳化硅复合镀膜玻璃 , 退火处理 , 光学性能 , 光污染

我们以硅烷(SiH4)和乙烯(C2H4)为原料,采用常压热分解APCVD法制备出了Si/SiC复合镀膜玻璃,并对其进行了退火处理.本文利用多种测试技术对退火后硅镀膜玻璃的光学性能以及其组成结构、化学稳定性等方面作了系统研究,发现退火处理能在保持镀膜玻璃其它重要性能变化不大的基础之上较好地改善硅镀膜玻璃的光学性能、降低玻璃的反射率、有效地防止目前日趋严重地光污染问题,为改善SSi/SiC复合镀膜玻璃的性能、扩大其应用领域作了有益的探索.

参考文献

[1]	PeterH .[J].Beming Appl opt,1983,22(24):4127.
[2]	IokEffiong;Garg Shyam .[J].Journal of the Electrochemical Society,1993,140(10):2927.
[3]	JacosonNS .Corrosion of silicon-based ceramics in combustion environments[J].Journal of the American Ceramic Society,1993,76(01):3.
[4]	ManfredLandau .[P].Bri UK Pat Appl GB1573154

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