RE(La、Dy)/Si多层膜的结构研究

材料科学与工程学报, 2000, 18(z2): 615-618. doi: 10.3969/j.issn.1673-2812.2000.z2.020

RE(La、Dy)/Si多层膜的结构研究

程国安 ^1, , 游琼玉 ^2, , 徐飞 ^3, , 肖志松 ^4, , 叶敦茹 ^5,

1.南昌大学材料科学工程系

2.南昌大学材料科学工程系

3.南昌大学材料科学工程系

4.南昌大学材料科学工程系

5.南昌大学材料科学工程系

关键词：多层膜 , 蒸发沉积

利用XRD、TEM、SEM等技术,对热处理前后的La/Si和Dy/Si多层膜样品的结构进行了研究.在未退火时,La/Si多层膜中形成了非晶态LaSi合金,Dy/Si多层膜存在非晶硅和纳米结构的Dy.两类多层膜中均未有稀土硅化物形成;经过400℃热处理后,多层膜中的稀土原子和硅原子的扩散加强,两元素之间的相互作用也随之增强,La/Si多层膜开始析出LaSi2-x相,Dy/Si多层膜中开始析出DySi2-c相.随着热处理温度的升高,La/Si多层膜样品中LaSi2-x硅化物的量逐渐增加,结晶逐渐完整;Dy/Si多层膜中DySi2-x硅化物相量逐渐增加,结晶逐渐完整.

参考文献

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[8]	程国安;肖志松.会议文集[A].北京,1999

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