常压化学气相沉积硅镀膜玻璃结构、表面形貌与光学性能比较研究

材料科学与工程学报, 2000, 18(z2): 646-649. doi: 10.3969/j.issn.1673-2812.2000.z2.028

常压化学气相沉积硅镀膜玻璃结构、表面形貌与光学性能比较研究

莫建良 ^1, , 朱文斌 ^2, , 刘峰 ^3, , 王昕 ^4, , 张溪文 ^5, , 韩高荣 ^6,

1.浙江大学材料系,杭州,310027

2.浙江大学科技园,杭州,310027

3.浙江大学材料系,杭州,310027

4.浙江大学材料系,杭州,310027

5.浙江大学材料系,杭州,310027

6.浙江大学材料系,杭州,310027;浙江大学科技园,杭州,310027

基金项目: 国家自然科学基金(59872029) 教育部跨世纪优秀人才培养计划

关键词：常压化学气相沉积 , 硅镀膜玻璃 , 表面形貌 , 光污染

本文通过高分辨电镜(HREM)、原子力显微镜(AFM)分析,反射率、透射率测试以及薄膜厚度的测试,研究了常压化学气相沉积法硅镀膜玻璃硅薄膜的结构、表面形貌(颗粒数量、大小和分布)对镀膜玻璃反射率、透射率的影响.研究发现不同的制备工艺(沉积温度和基板走速)对薄膜的平均反射率和平均透过率有很大的影响,通过控制合适的工艺参数可以制得具有纳米颗粒镶嵌结构的复合薄膜.具有此种形貌结构的薄膜能在基本部增大透过率的情况下有效减少薄膜镜面反射,减少光污染.

参考文献

[1]	CharrlesGreenerg .[J].Journal of the Electrochemical Society,1993,140(01):3332.
[2]	Pilkington Bros Ltd Ger Offenlagungschr 2626118[Z].
[3]	梁铨廷.物理光学[M].北京:机械工业出版社
[4]	KDAnnen;C D Stinespring .[J].Journal of Vacuum Science and Technology A-Vacuum Surfaces and Films,1990,8(03):2970.
[5]	DSFishman;W T Petaskey .[J].Journal of the American Ceramic Society,1985,68(04):185.
[6]	魏希文;陈国栋.多晶硅薄膜及其应用[M].北京:科学出版社

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