通过硅烷、乙烯和氮气的混合气体在620下采用常压化学气相沉积(APCVD)法沉积了非晶硅薄膜,讨论了乙烯/硅烷的体积比(R=VC2H4/VsiH4)对薄膜的光学性质的影响.用Raman光谱、红外光谱和紫外-可见光光谱仪对薄膜进行表征.结果表明通过乙烯掺杂制备的薄膜样品中存在着Si-C键,在R值变化的开始阶段薄膜的光学带隙随着R值增大而增大,在R=0.1时达到最大值,然后随着R值的增大而减小.
参考文献
[1] | N. Carmona;M.A. Villegas;J.M. Fernandez Navarro .Protective silica thin coatings for historical glasses[J].Thin Solid Films: An International Journal on the Science and Technology of Thin and Thick Films,2004(1/2):121-128. |
[2] | Roberto Galloni.Amorphous silcon solar cells[M].WREC,1996:400-404. |
[3] | D.A.Anderson;W.E.spear .[J].Philosophical Magazine,1977,35:1. |
[4] | T.Shimada;Y.Katayama;K.F.Komatsubara .[J].Journal of Applied Physics,1979,50:5530. |
[5] | 樊先平,钱进,姚华文.溶胶-凝胶法制备SiO2基光学玻璃薄膜的红外光谱研究[J].材料科学与工程,2002(03):325-327,460. |
[6] | H. Anma;J. Toki;T. Ikeda;Y. Hatanaka .Uniform deposition of SiC thin films on plastics surfaces[J].Vacuum: Technology Applications & Ion Physics: The International Journal & Abstracting Service for Vacuum Science & Technology,2000(2/3):665-671. |
[7] | J.Tanu;R.Grigorovici;A.Vancu .[J].Physica Status Solidi,1996,15:627. |
[8] | 何宇亮;陈光华;张仿清.非晶态半导体物理学[M].北京:高等教育出版社,1989:295-306. |
[9] | 朱懿,余京松,韩高荣.乙烯含量对CVD法硅镀膜玻璃结构和性能的影响[J].建筑材料学报,1999(02):126. |
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