低压金属有机化学气相外延生长室热流场的模拟与分析

1.北京邮电大学光通信与光波导教育部重点实验室,北京,100876

2.北京邮电大学光通信与光波导教育部重点实验室,北京,100876

3.北京邮电大学继续教育学院,北京,100876

4.北京邮电大学光通信与光波导教育部重点实验室,北京,100876

5.北京邮电大学光通信与光波导教育部重点实验室,北京,100876

6.北京邮电大学光通信与光波导教育部重点实验室,北京,100876

基金项目: 国家重点基础研究发展计划(973计划)(2003CB314901)

Numerical Simulation and Analysis of Flow Field in Low Pressure Metalorganic Chemical Vapour Deposition Reactor

本文运用了有限体积方法模拟了低压有机金属化学气相外延生长室的二维流场和热场的分布情况,分析了生长室内压力和基座转速对于流场和热场影响,指出了低压金属有机化学气相外延的优点所在.

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