TiO2具有较高的折射率和介电常数,在光学和电子学方面有着广泛的应用.本论文采用离子束辅助反应电子束真空蒸镀法,以Ti为膜料,纯度为99.99%的02为反应气体,通过电子束蒸发,在玻璃衬底上反应生成TiO2薄膜.使用XRD、SEM分别对50℃、150℃、300℃三个不同衬底温度下沉积的薄膜及其经过450℃真空退火1h后的结构进行了分析,对薄膜的折射率、透射率进行了测量.结果表明,与传统的电子束蒸发相比,离子束辅助电子束蒸发可以增加成膜原子的能量,使沉积的薄膜结构致密,所制备的薄膜具有较高的折射率,并且薄膜在可见光范围内具有良好的透过性能.
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