磁控溅射沉积气致变色WO3薄膜研究进展

中国材料进展, 2016, 35(1): 57-63. doi: 10.7502/j.issn.1674-3962.2016.01.08

磁控溅射沉积气致变色WO3薄膜研究进展

温佳星 ^1, , 王美涵 ^2, , 彭洋 ^3, , 王新宇 ^4, , 侯朝霞 ^5, , 王少洪 ^6, , 胡小丹 ^7,

1.沈阳大学机械工程学院,辽宁沈阳,110044

2.沈阳大学机械工程学院,辽宁沈阳,110044

3.沈阳大学机械工程学院,辽宁沈阳,110044

4.沈阳大学机械工程学院,辽宁沈阳,110044

5.沈阳大学机械工程学院,辽宁沈阳,110044

6.沈阳大学机械工程学院,辽宁沈阳,110044

7.沈阳大学机械工程学院,辽宁沈阳,110044

基金项目: 辽宁省优秀人才支持计划(LJQ2014132) 2015年国家人社部留学人员科技活动项目择优资助国家自然科学基金青年基金(51302175)

关键词： WO3薄膜 , 磁控溅射 , 掠射角 , 纳米结构 , 气致变色

Progress in Gasochromic WO3 Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering

Keywords： tungsten oxide thin films , magnetron sputtering , glancing angle , nanostructure , gasochromic properties

氧化钨薄膜因其特殊的物理化学性质,在智能窗、传感器等诸多新领域具有广泛的应用前景.为使WO3薄膜气致变色特性得到良好的应用,需要制备新型纳米结构氧化钨薄膜.磁控溅射是工业制备WO3薄膜的有效方法之一.掠射角磁控溅射是在传统磁控溅射基础上发展的新型薄膜制备技术,通过将衬底倾斜一定角度,可制备出具有高结晶度、大比表面积、排列规则的纳米结构WO3薄膜.综述了氧分压、溅射功率及热处理等磁控溅射参数对WO3薄膜组成、形貌、晶体结构等的影响,重点介绍了具有独特优势的掠射角磁控溅射技术,及利用其制备得到的纳米结构WO3薄膜在智能窗和气体传感器等方面的应用,提出了掠射角磁控溅射制备纳米结构WO3薄膜存在的问题及未来发展趋势.

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