稀释气体Ar对金刚石薄膜沉积质量的影响

1.哈尔滨工业大学航天学院,哈尔滨,150001

2.哈尔滨工业大学航天学院,哈尔滨,150001

3.中国空间技术研究院508所,北京,100076

Effect of Dilute Ar Gas on CVD Diamond Films Quality

本文探讨了在燃烧焰法沉积金刚石薄膜过程中,稀释气体Ar对沉积质量的影响.发现在成膜过程中适当量的Ar起到增大内焰体积、降低沉积速率和提高晶型质量的作用.文中分析了其原因,并实现了利用Ar来控制高质量金刚石薄膜的生长.

[1]	张以忱,杨乃恒.金刚石薄膜材料的应用与合成技术[J].真空,1991(01):37.
[2]	Hirose Y.[J].New Diamond,1988(04):34.
[3]	Snail K A.[J].Applied Physics Letters,1991(58):1875.
[4]	Murayama M.[J].Journal of Applied Physics,1991(69):7924.
[5]	Meeks E.[J].Combustion and Flame,1993(92):144.
[6]	Tzeng Y.[J].Applied Physics Letters,1991(58):2645.
[7]	Franklin.[J].Thin Solid Films,1992(212):127.
[8]	高军;张伟.[J].膜科学与技术,1995(04):372.

上一张下一张

计量

作者相关

文章评分