采用动电位极化法、交流阻抗法研究了青铜试样在0.5 mol/L NaCl溶液中，苯并三唑（BTA）和Na2MoO4复合缓蚀剂对其电化学行为的影响，通过X射线光电子能谱技术分析了复合缓蚀剂在青铜表面形成的表面膜组成.结果表明，在0.5 mol/L NaCl溶液中，BTA和Na2MoO4复配使用具有良好的协同缓蚀效果，增强了对青铜阳极过程的抑制作用，提高了青铜电极表面膜电阻和电极反应的界面电荷转移电阻.XPS表面分析结果证明，在BTA和Na2MoO4复合缓蚀剂的作用下，青铜表面生成［Cu(Ⅰ)BTA］聚合物保护膜，SnO2,PbO,MoO3等金属氧化物沉积在表面膜上，改善了表面膜的致密性，使其具有良好的抗氯离子腐蚀性能.从而提高了表面膜的保护性能，有效地保护了青铜基体.
参考文献
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