催化条件对SiO2静电自组装薄膜光学性质的影响

功能材料, 2005, 36(6): 832-835.

催化条件对SiO2静电自组装薄膜光学性质的影响

何方方 ^1, , 许丕池 ^2, , 余海湖 ^3, , 廖其龙 ^4, , 周元林 ^5, , 夏安 ^6,

1.西南科技大学,四川省先进建筑材料重点实验室,四川,绵阳,621002

2.西南科技大学,四川省先进建筑材料重点实验室,四川,绵阳,621002

3.武汉理工大学,光纤中心,湖北,武汉,430070

4.西南科技大学,四川省先进建筑材料重点实验室,四川,绵阳,621002

5.西南科技大学,四川省先进建筑材料重点实验室,四川,绵阳,621002

6.西南科技大学,四川省先进建筑材料重点实验室,四川,绵阳,621002

基金项目: 国防科技应用基础研究基金(K12030611091,ZK043073)

关键词：静电自组装 , 二氧化硅 , 光学增透膜 , 热处理 , 催化

Effect of catalysts on optical anti-reflective characteristic of SiO2 films prepared by electrostatic self-assembly method

用NH3·H2O催化和先后经HCl、NH3·H2O、HCl依次分步催化分别制备了SiO2溶胶.在低折射率的玻璃基片上用静电自组装(electrostatic selfassembly multilayer,ESAM)法制备了聚电介质PDDA与SiO2的光学增透薄膜.研究了制备SiO2溶胶的催化条件对SiO2的光学增透薄膜在可见光区透光特性的影响.用傅立叶红外光谱仪(FT-IR)、X光电子能谱(XPS)、透射电镜(TEM)对薄膜进行了组成和结构分析,用721分光光度计测试薄膜的透光性能.结果显示,两种薄膜都使基片的透过率得到大大增加.NH3·H2O催化SiO2溶胶制备的SiO2光学增透膜使基片在波长为520nm处透过率达到99.2%,相对于HCl与NH3·H2O分步催化制备的薄膜强,但薄膜的耐刮伤能力较相对较差.

参考文献

[1]	Decher G;Hong J D .[J].Berichte der Bunsen Gesellschaft physical Chemistry Chemical Physics,1991,95(11):1430-1434.
[2]	Decher G et al.[J].Thin Solid Films,1992,210-211:831.
[3]	Kotov N A;Dekany I;Fendler J H .[J].Journal of Physical Chemistry,1995,99:13055.
[4]	许丕池,姜德生,余海湖,李小甫,李鸿辉.SiO2 溶胶及其静电自组装薄膜的制备[J].化学物理学报,2004(02):165-170.
[5]	许丕池,余海湖,何方方,卢忠远,康明.热处理温度对静电自组装PDDA/SiO2光学薄膜的影响[J].武汉理工大学学报,2005(01):10-13.
[6]	Floch H G;Belleville P F;Pegon P M.Sol-gel Optical Thin Films for an Advanced Megajoule-class Nd:Glass Laser ICF-driver[A].,1995:432-445.
[7]	谢晶曦;常俊标;王绪明.红外光谱在有机化学和药物化学中的应用[M].北京:科学出版社,2001
[8]	Yoldas B E.Process Induced Variations in Sol-gel Derived Oxide Coatings[A].,1990:296-306.

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