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本文用脉冲激光溅射沉积法(PLD)在LaAlO3(100)基片上外延生长YB%Cu307-δ掺锆酸钡(BZO)薄膜.用X射线衍射、透射电镜对薄膜结构进行分析.探索PLD沉积的最佳实验参数,最佳沉积温度为800℃,最佳氧分压为25 Pa,最佳沉积频率为3 Hz.

参考文献

[1] Kang S;Goyal A;Li J;Gapud AA;Martin PM;Heatherly L;Thompson JR;Christen DK;List FA;Paranthaman M .High-performance high-T-c superconducting wires[J].Science,2006(5769):1911-1914.
[2] 梁素平,蒋毅坚.脉冲激光溅射沉积YBCO超导薄膜[J].应用激光,2002(02):236-240.
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