SmCo/Cr薄膜中Cr底层最佳溅射条件的正交设计研究

稀有金属材料与工程, 2004, 33(10): 1033-1036.

SmCo/Cr薄膜中Cr底层最佳溅射条件的正交设计研究

许小红 ^1, , 段静芳 ^2, , 王芳 ^3, , 武海顺 ^4, , 李震 ^5, , 李佐宜 ^6,

1.山西师范大学,山西,临汾,041004;华中科技大学,湖北,武汉,430074

2.山西师范大学,山西,临汾,041004

3.山西师范大学,山西,临汾,041004

4.山西师范大学,山西,临汾,041004

5.华中科技大学,湖北,武汉,430074

6.华中科技大学,湖北,武汉,430074

基金项目: 教育部高校骨干教师资助计划湖北省科技攻关项目(20041032) 山西省自然科学基金

关键词： SmCo/Cr薄膜 , 矫顽力 , Cr底层 , 溅射参数

Orthogonal Design for the Optimal Deposition of Cr Underlayer for SmCo/Cr Magnetic Films

在SmCo/Cr薄膜中,Cr底层的取向结构对薄膜的磁学性能有很大的影响.设计了4因素3水平的正交实验L9(34),并通过数理统计的方法分析了Cr底层的溅射参数对SmCo/Cr薄膜矫顽力的影响.用较少的实验得到Cr底层的最佳实验条件:靶基距为4 cm,功率为50 W,溅射气压为0.5 Pa,溅射时间为9 min.并发现了靶基距、功率和溅射气压对薄膜矫顽力的影响较大,其中靶基距是薄膜矫顽力最主要的控制因素.而溅射时间在所取的水平上对薄膜矫顽力的影响最小.本实验设计可达到95%的置信度.

参考文献

[1]	Twisseimann D J;Chambers P G;Ross C A et al.[J].Journal of Applied Physics,2002,92:3223-3225.
[2]	Min T;Zhu J G .[J].Journal of Applied Physics,1994,75:6129-6131.
[3]	Velu E M T;Lambeth D N .[J].Journal of Applied Physics,1991,69:5157-5159.
[4]	Velu E M T;Lambeth D N;Thomton J T et al.[J].Journal of Applied Physics,1994,75:6172-6174.
[5]	Okumura Y.;Morita H.;Yang XB.;Fujimori H.;Suzuki O. .MICROSTRUCTURE AND MAGNETIC PROPERTIES OF SPUTTERED COSM/CR THIN FILMS WITH HIGH COERCIVITIES[J].Journal of Magnetism and Magnetic Materials,1995(1/2):5-12.
[6]	Laughlin D.E.;Wong B.Y. .The crystallography and texture of Co-based thin film deposited on Cr underlayers[J].IEEE Transactions on Magnetics,1991(6):4713-4717.
[7]	王亦忠,张茂才,乔档,韩宝善,张臻蓉,梁冰青,王荫君,沈保根.各向同性富铁Fe-Pt纳米晶薄膜的形成及其磁性[J].稀有金属材料与工程,2002(03):213-216.
[8]	Takei S.;Morisako A.;Matsumoto M.;Haeiwa T.;Shomura S. .SMCO/CR BILAYER FILMS FOR HIGH-DENSITY RECORDING MEDIA[J].Journal of Applied Physics,1997(8 Pt.2a):4674-4676.
[9]	Feng Y C;Laughlin D E;Lambeth D N .[J].Journal of Applied Physics,1994,76:7311-7313.
[10]	周晓钟.概率论及数理统计[M].Harbin: The People's Press of Heilongjiang,1995:32.
[11]	刘晓石;陈鸿建;何腊梅.概率论与数理统计[M].北京:科学出版社,2002:127-134.
[12]	Akiyama M;Xu C N;Nonaka K et al.[J].Thin Solid Films,1998,315:62-65.
[13]	Hickernell F.J.;Yue R.-X.;Hickernell F.S. .Statistical modeling for the optimal deposition of sputteredpiezoelectric films[J].IEEE Transactions on Ultrasonics, Ferroelectrics, and Frequency Control,1997(3):615-623.
[14]	许小红,武海顺,张富强,金志浩.氮化铝薄膜结构和表面粗糙度的研究[J].稀有金属材料与工程,2000(06):394-397.
[15]	许小红,武海顺,张富强,张聪杰,李佐宜.反应溅射制备AlN薄膜中沉积速率的研究[J].稀有金属材料与工程,2002(03):209-212.

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