利用模拟在线CVD镀膜的实验设备,通过改变原料参数而在玻璃表面制备了ATO系列薄膜样品,并通过紫外-可见-近红外分光光度计、XRD、SEM及方块电阻计等测试手段研究参数变化对膜层结构与性能的影响.结果表明:不同工艺参数下,所制备的薄膜均为四方相金红石型结构;当Sb掺杂量为3wt％,Sn/H2O摩尔比为2∶1时,制备出的薄膜样品性能表现为:可见光透过率为79.25％;方块电阻为20 Ω·口-1;遮蔽系数为0.66,其在保证良好采光的同时具备一定遮阳及低辐射性能,可满足市场需求.
参考文献
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