通过恒温氧化实验研究氢化锆在O<,2>中,450～600℃温度范围内的氧化行为,分析温度和时间对氧化膜生长速度的影响规律.结果表明,氢化锆在O<,2>中450～600℃温度范围内,表面形成氧化膜厚度的平方(D<'2>)与时间(t)的关系曲线呈良好的线性关系,氧化反应动力学符合Wagner理论模型中的抛物线生长规律.氧原子在氧化膜中的扩散过程为氧化反应的控速步骤.扩散系数与温度遵循Arrhenius定律,扩散激活能为18724.5 J/mol,据此判断氧原子在氧化膜中的扩散机制以晶界扩散占主导.
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