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采用碱式碳酸铜为主盐,以EDTA为配位剂,研制了一种无氰碱性镀铜工艺.通过极化曲线、镀层性能的测定,考察了电解液组分和工艺参数对镀层的影响.确定了最佳工艺条件为:Cu2(OH)2CO3 10~20 g/L,C6H5O7K3·H2O25~40 g/L,KNO34 g/L,配合比2.5,pH 11~13,温度50~70℃,电流密度0.5~3.5 A/dm2.该工艺镀液稳定,电流效率高,镀层光亮致密,孔隙率低,结合力良好.

参考文献

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