电沉积方式对铌表面熔盐渗硅的影响

电镀与涂饰 , 2015, 34(20): 1160-1.

电沉积方式对铌表面熔盐渗硅的影响

王雁利 ^1, , 杨海丽 ^2, , 吴晔康 ^3, , 徐宏 ^4, , 王心悦 ^5, , 冯策 ^6,

1.华北理工大学冶金与能源学院,现代冶金技术教育部重点实验室,河北唐山063009

2.华北理工大学冶金与能源学院,现代冶金技术教育部重点实验室,河北唐山063009

3.华北理工大学冶金与能源学院,现代冶金技术教育部重点实验室,河北唐山063009

4.华北理工大学冶金与能源学院,现代冶金技术教育部重点实验室,河北唐山063009

5.华北理工大学冶金与能源学院,现代冶金技术教育部重点实验室,河北唐山063009

6.华北理工大学冶金与能源学院,现代冶金技术教育部重点实验室,河北唐山063009

基金项目: 河北省自然科学基金资助项目(E2014209275)

关键词：铌 , 渗硅 , 熔盐 , 电沉积 , 直流 , 脉冲 , 高温氧化

Effects of different electrodeposition methods on siliconizing of niobium in molten salt

Keywords： niobium , siliconizing , molten salt , electrodeposition , direct current , pulse current , high-temperature oxidation

采用由氯化钠、氯化钾、氟化钠和二氧化硅(摩尔比为1:1:3:0.3)组成的熔盐,分别以直流、单脉冲、换向脉冲的电沉积方式在纯铌表面渗硅.对比研究了不同电沉积方式下所得渗硅层的厚度、成分、组织、相结构和抗氧化性.结果表明,渗硅层厚度按照单脉冲、换向脉冲、直流电沉积的方式依次降低.与直流和单脉冲电沉积相比,换向脉冲方式所得渗硅层的组织更加致密、平整.电沉积方式对渗硅层的相结构无影响,所得渗硅层均由单相NbSi2组成,并在(110)和(200)晶面上择优生长.换向脉冲方式制备的渗硅层抗高温氧化性能最好.

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