磁控溅射基片低温冷却法制备NiOx纳米微晶薄膜

功能材料, 2008, 39(10): 1618-1621.

1.北京航空航天大学,理学院,凝聚态与材料物理研究中心,北京,100083;北京印刷学院,基础部,北京102500

2.北京航空航天大学,理学院,凝聚态与材料物理研究中心,北京,100083

3.北京有色金属研究总院,北京100088

4.北京航空航天大学,理学院,凝聚态与材料物理研究中心,北京,100083

5.北京航空航天大学,理学院,凝聚态与材料物理研究中心,北京,100083

6.北京航空航天大学,理学院,凝聚态与材料物理研究中心,北京,100083

7.北京航空航天大学,理学院,凝聚态与材料物理研究中心,北京,100083

基金项目: 国家重点基础研究发展计划(973计划)(2007CB936300)

Preparation of nano-microcrystalline NiOx films by magnetron sputtering and cooling substrates

利用自行设计的基片液氮低温冷却装置,用金属Ni靶在Ar+O2气氛反应条件下,利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法,薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像(SEM)表明,该方法实现了在溅射参数完全相同的条件,纳米NiOx薄膜结构连续可控、可调节.

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