为了探讨磁场作用下电铸工艺参数对单面覆铜板表面铸层显微形貌的影响，以铸层的显微硬度为指标，采用正交试验优选了微电铸工艺参数，探讨了磁场强度、电流密度以及超声功率对铸层表面形貌的影响规律，确定了磁场作用下制备高硬度且铸层平整、致密的最优工艺参数。结果表明：施加磁场后，金属离子受到磁流体力学效应对电铸过程产生影响；随着磁场强度的增大，铸层晶粒逐渐得到细化，形状更加规则；随着电流密度、超声功率的增大，铸层晶粒均呈现出先细化后粗化的规律。磁场强度0．6T、电流密度2A／dm2、超声功率240W、占空比20％下所得铸层晶粒粒径均匀，表面平整致密，显微硬度较高，具有良好的综合性能。
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