靶基距对射频磁控溅射法制备氟碳膜的结构与性能影响

功能材料, 2011, 42(5): 918-920.

靶基距对射频磁控溅射法制备氟碳膜的结构与性能影响

刘增机 ^1, , 纪全 ^2, , 张浴晖 ^3, , 夏延致 ^4, , 王凤军 ^5,

1.青岛大学,化工学院,山东,青岛,266071;青岛大学,纤维新材料与现代纺织国家重点实验室培育基地,山东,青岛,266071

2.青岛大学,化工学院,山东,青岛,266071;青岛大学,纤维新材料与现代纺织国家重点实验室培育基地,山东,青岛,266071

3.青岛大学,化工学院,山东,青岛,266071

4.青岛大学,化工学院,山东,青岛,266071;青岛大学,纤维新材料与现代纺织国家重点实验室培育基地,山东,青岛,266071

5.青岛大学,化工学院,山东,青岛,266071;青岛大学,纤维新材料与现代纺织国家重点实验室培育基地,山东,青岛,266071

基金项目: 国家自然科学基金(50673046)

关键词：射频磁控溅射 , 靶基距 , AFM , XPS , 接触角

The study on structure and properties of fluorocarbon films prepared by RF magnetron sputtering at varying target-substrate distance

采用射频磁控溅射法,以聚四氟乙烯(PT-FE)为靶,氩气为载气,在再生纤维素基底上制备了氟碳膜.用原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)和静态接触角测试仪对氟碳膜的表面形貌、表面结构和表面性能进行了研究.结果表明,该法制得的氟碳膜是由纳米粒子组成的岛状结构,岛的表面起伏不平.这种氟碳膜由-CF3-CF2-、-CF-和-C-4个组分构成,靶基距从30mm增加到813mm时,氟碳膜的F/C从0.551减小到0.427,呈逐渐减小的趋势.随着靶基距的增大,接触角从107°逐渐减小到75°,减小靶基距有利于提高氟碳膜的疏水性能.

参考文献

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