ZnO掺杂Li+陶瓷靶及溅射膜制备工艺研究

功能材料, 2006, 37(4): 583-590.

ZnO掺杂Li+陶瓷靶及溅射膜制备工艺研究

陈祝 ^1, , 张树人 ^2, , 杜善义 ^3, , 杨成韬 ^4, , 孙明霞 ^5, , 郑泽渔 ^6, , 李波 ^7, , 董加和 ^8,

1.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

2.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

3.哈尔滨工业大学,复合材料研究所,黑龙江,哈尔滨,150001

4.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

5.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

6.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

7.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

8.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054

基金项目: 国家重点基础研究发展计划(973计划)(5130Z02)

关键词：陶瓷靶 , 氧化锌薄膜 , 射频磁控溅射 , 择优取向

The experimental investigation on preparation of Li-doped ZnO ceramic targets and sputtering thin films

利用固相反应成功地制备了直径为70mm,厚度为10～15mm的掺杂Li离子ZnO陶瓷靶材.研究了不同摩尔浓度的Li离子掺杂靶材,并对其绝缘电阻与损耗进行了分析比较,最终确定Li离子的最佳掺杂量为2.2l%(摩尔分数).同时通过在不同温度烧结试验、不同成型压力试验确定了ZnO靶材制备的最佳工艺,并通过所制备的ZnO-Li0.022陶瓷靶,采用RF射频磁控溅射技术在Si(100)、玻璃(载玻片)、及Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)基片上制备出高度c轴(002)择优取向、均匀、致密的ZnO薄膜.

参考文献

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[9]	Walter W;Sheng-Yuan C;Yung-Der J et al.[J].Materials Letters,2002,57:998-1003.

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