采用8-羟基喹啉的碱性水溶液,分别通过循环伏安法和恒电位法在镍基体上电沉积制备了聚8-羟基喹啉薄膜.探讨了2种方法制备聚8-羟基喹啉薄膜的电化学行为,并对比研究了不同方法所得试样的表面形貌和耐蚀性.结果表明,循环伏安法电沉积聚8-羟基喹啉的氧化峰为0.563 V和0.481 V,还原峰则位于0.318 V;恒电位法电沉积聚8-羟基喹啉包含聚合物成核和长大2个过程.恒电位法所得聚8-羟基喹啉薄膜较循环伏安法所得膜更平整,耐蚀性更好.聚8-羟基喹啉薄膜增大了基体表面的电荷转移电阻,隔绝了腐蚀介质,从而有效增强了镍基体的耐蚀性.
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