目的 研究台阶的形貌对台阶仪测试的影响,准确测试薄膜的厚度.方法 分析制备台阶中存在的问题,针对这些问题设计了中轴线位置带掩膜条的掩膜板,并采用该新型掩膜板,在不同衬底上制备台阶,用台阶仪对薄膜的厚度进行测定.结果 在薄膜中轴线附近做出的台阶,坡度陡峭,上下表面清晰.Mo衬底上制备出的薄膜厚度重复性较好;单晶硅衬底上制备的薄膜表面粗糙度较大;石英衬底上制备薄膜形成的台阶上下表面均较为平滑.结论 使用新型掩膜板在石英衬底上制备出理想台阶,可较为准确地测试薄膜的厚度.
参考文献
| [1] | FREUND L B;SURESH S.薄膜材料--应力、缺陷的形成和表面演化[M].卢磊等译.北京:科学出版社,2006 |
| [2] | TANG Y;STANLEY K et al.Design Consideration of Micro Thin Film Solid-oxide Fuel Cells[J].Journal of Micromechanics and Microengineering,2005,15:S185-S192. |
| [3] | A. M. Minor;J. W. Morris;E. A. Stach .Quantitative in situ nanoindentation in an electron microscope[J].Applied physics letters,2001(11):1625-1627. |
| [4] | 王浩;邹积岩 .薄膜厚度测量技术[J].微细加工技术,1993,11(01):55-60. |
| [5] | 徐建,陆敏,朱丽娜,吴立敏.纳米薄膜的制备技术及其膜厚表征方法进展[J].现代仪器,2012(03):11-15. |
| [6] | KUZMA M;WISZ G et al.PLD of HgCdTe on Two Kinds of Si Substrate[J].Applied Surface Sinence,1999,138:465-470. |
| [7] | KAREN H;ROBERT S .Amorphous Ti-Si Alloy Formed by Interdiffusion of Amorphous Si and Crystalline Ti Multilayers[J].Journal of Applied Physics,1987,61(04):1359-1364. |
| [8] | 邓宗武;朱永法;曹立礼 等.Ti/Si(1 00)体系界面扩散反应动力学研究[J].真空科学与技术,1994,14(03):200-205. |
上一张
下一张
上一张
下一张
计量
- 下载量()
- 访问量()
文章评分
- 您的评分：
-
10%
-
20%
-
30%
-
40%
-
50%