低温低磷化学镀镍

电镀与涂饰 , 2011, 30(1): 24-26.

1.长春工业大学化学工程学院,吉林,长春,130012

2.长春工业大学化学工程学院,吉林,长春,130012

3.长春工业大学化学工程学院,吉林,长春,130012

4.长春工业大学化学工程学院,吉林,长春,130012

基金项目: 长春工业大学校内基金(2010XN09)

Electroless nickel plating at low temperature and low phosphorus

研究了温度、pH、次磷酸钠、柠檬酸和辅助配位剂对化学镀镍沉积速率和镀层磷含量的影响,确定了一种低温(40℃)、低磷(w=4.15%)的碱性化学镀液配方:硫酸镍25 g/L,次磷酸钠8.0 g/L,柠檬酸30 g/L,辅助配位剂(一种含铵的化合物)15 g/L,pH 9.0.

[1]	李宁.化学镀实用技术[M].北京:化学工业出版社,2004:92-100.
[2]	Aleman M.;Bay N.;Barucha D.;Glunz S. W.;Preu R. .Metallising the Front-Side of Silicon Solar Cells Using Nickel and Photo-Induced Silver Deposition[J].Galvanotechnik: Leiterplatten-Technik,2009(2):412-417.
[3]	柏冬梅 .微电子封装中化学镀Ni-P薄膜研究[D].大连理工大学,2009.
[4]	崔国峰 .化学镀镍磷合金过程中磷的析出及其对镀层性能的影响[D].哈尔滨工业大学,2006.
[5]	刘琼 .低磷化学镀镍工艺的研究[D].哈尔滨工业大学,2007.
[6]	张喜生,李华飞.泡沫基体上低磷化学镀镍工艺[J].电镀与涂饰,2007(02):22-24.

上一张下一张

计量

作者相关

文章评分