沉积时间对磁控反应溅射制备TiO2薄膜性能的影响

功能材料, 2008, 39(11): 1785-1788.

沉积时间对磁控反应溅射制备TiO2薄膜性能的影响

张文杰 ^1, , 朱圣龙 ^2, , 李瑛 ^3, , 王福会 ^4, , 何红波 ^5,

1.沈阳理工大学,环境与化学工程学院,辽宁,沈阳,110168;中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016

2.中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016

3.中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016

4.中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016

5.中国科学院沈阳应用生态研究所,辽宁,沈阳,110016

基金项目: 国家自然科学基金(2005CB121104) 国家自然科学基金(50774074)

关键词：磁控反应溅射 , TiO2薄膜 , 光催化 , 沉积时间

Influence of deposition time on TiO2 photocatalyst films deposited by dc reactive magnetron sputtering

应用直流磁控反应溅射法,在玻璃基体上制备了具有光催化活性的TiO2薄膜.TiO2薄膜的厚度随沉积时间的增加而均匀增长.基体温度则在溅射的最初1h很快上升到110℃,溅射7h基体温度不超过130℃.溅射2h得到的是非晶态TiO2薄膜,而溅射3～7h制备的薄膜为锐钛矿型结构.非晶态和小晶粒TiO2薄膜的紫外一可见透射光谱谱带边沿与结晶较好的TiO2薄膜相比有明显的蓝移,薄膜的透射率随沉积时间的增加而下降.钛以四价钛的形式存在于TiO2薄膜中.TiO2薄膜的光催化活性随沉积时间争薄膜厚度的增加而有较大提高.

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